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基于光电测试的液晶材料电光特性表征与分析

作者

谢凯旋

石家庄诚志永华显示材料有限公司 河北石家庄 050000

一、基于光电测试的电光特性表征实验

(一)实验原理

利用光电测试系统,通过测量液晶材料在不同电场强度下的透过率、反射率或偏振态等光学参数的变化,来表征其电光特性。例如,采用光源发射特定波长的光,经过起偏器变为偏振光,再通过液晶样品池,液晶分子在电场作用下对偏振光进行调制,最后由检偏器和光探测器测量透过光的强度,从而得到光强与电场强度的关系曲线,以此分析液晶材料的电光特性。

(二)实验装置

光源系统:选用稳定的单色光源,如氦氖激光器(波长 632.8nm ),确保输出光的波长和强度稳定,为实验提供可靠的光源。

起偏与检偏系统:采用高品质的偏振片作为起偏器和检偏器,精确控制光的偏振方向。起偏器将光源发出的自然光转换为偏振光,检偏器则用于检测经过液晶调制后的偏振光强度。

液晶样品池:定制专门的液晶样品池,内部填充待测试的液晶材料。样品池两端装有透明电极,可施加不同强度的电场。同时,样品池的光学性能需满足实验要求,对光的吸收和散射极小。

电场施加系统:使用高精度的直流电源,能够精确调节输出电压,为液晶样品池提供稳定的电场。通过控制电压大小,改变液晶分子所受电场强度。

光探测与数据采集系统:采用光电探测器,如光电二极管,将光信号转换为电信号,并通过数据采集卡将电信号传输至计算机进行数据处理和分析。

(三)实验步骤

样品准备:将液晶材料注入样品池,确保液晶分子均匀分布且无气泡等杂质。安装好样品池,连接好电场施加系统和光探测系统。

系统校准:在无液晶样品时,调节起偏器和检偏器的角度,使光探测器输出的光强达到最大值,此时系统处于最佳工作状态。记录此时的光强值作为初始光强。

数据采集:逐渐增加施加在液晶样品池上的电场强度,从 0 开始,以一定的电压间隔(如 0.1V)逐步增加电压,在每个电压值下,稳定一段时间(如10s),待液晶分子取向稳定后,记录光探测器输出的光强值。

数据处理:根据采集到的数据,计算不同电场强度下液晶材料的透过率(透过光强与初始光强之比)。绘制透过率 - 电场强度曲线,分析曲线的特征,如阈值电压(透过率开始明显变化时的电场强度,一般用V10 表示)、饱和电压(透过率达到稳定时的电场强度,一般用V90 表示)等电光特性参数。

二、实验结果与分析

(一)透过率 - 电场强度曲线分析

从实验得到的透过率 - 电场强度曲线可以看出,在电场强度较低时,液晶分子取向基本不变,透过率保持相对稳定。当电场强度逐渐增加,达到阈值电压时,液晶分子开始在电场作用下发生取向变化,透过率随之逐渐降低。随着电场强度进一步增大,液晶分子几乎完全沿电场方向排列,透过率达到饱和值,基本不再随电场强度变化。通过对曲线的精确分析,可以准确确定液晶材料的阈值电压和饱和电压等关键参数。例如,对于某一特定的液晶材料,实验测得其阈值电压为 1.24V,饱和电压为 2.14V。

(二)响应时间分析

除了透过率与电场强度的关系,液晶材料的响应时间也是重要的电光特性参数。响应时间包括上升时间(从施加电场到透过率达到 90% 饱和值所需的时间即 NS-S 过程 T90-T10,一般用 Ton 表示)和下降时间(从撤去电场到透过率恢复到 10% 饱和值所需的时间即 S-NS 过程 T90-T10,一般用 Toff 表示)。通过在施加和撤去电场的瞬间,快速采集光强随时间的变化数据,可以计算出液晶材料的响应时间。一般来说,响应时间越短,液晶材料在光电器件中的应用性能越好。实验测得该液晶材料的上升时间为 8.32ms ,下降时间为 17.23ms ,表明其在快速光调制应用中具有一定的潜力。

(三)与理论模型对比

将实验结果与现有的液晶电光效应理论模型进行对比,验证理论模型的准确性,并进一步深入理解液晶材料的电光特性。例如,通过将实验得到的透过率 - 电场强度曲线与基于弹性连续体理论的液晶电光效应模型计算结果进行对比,发现两者在趋势上基本一致,但在某些细节上存在差异。这些差异可能源于实验过程中的测量误差、液晶材料的实际分子结构与理论模型假设的差异等因素。通过对差异的分析,可以为改进理论模型和优化实验方法提供参考。

结论

基于光电测试的液晶材料电光特性表征与分析是深入研究液晶材料性质及应用的重要手段。通过详细的实验过程,能够准确获取液晶材料的阈值电压、饱和电压、响应时间等关键电光特性参数,并通过对实验结果的分析,揭示液晶材料电光特性的内在规律。这些研究成果不仅为液晶材料在显示、光通信等领域的优化应用提供了依据,也为新型液晶材料的研发和光电器件的创新设计奠定了基础。

参考文献:

[ 1 ]刘 正 云 , 金 伟 其 , 高 教 波 . 红 外 液 晶 光 阀 参 数 设 计 及 电 光特 性 分 析 [J]. 红 外 与 激 光 工 程 , 2007, 36(4):5.DOI:10.3969/j.issn.1007-2276.2007.04.014.